電去離子edi高純水設(shè)備
一、edi高純水設(shè)備概述：
edi高純水設(shè)備作為制取超純水的設(shè)備，作為反滲透設(shè)備后的二次除鹽 設(shè)備，可以制取出高達(dá)10-18.2mω.cm。因此廣泛用于微電子工業(yè)，半導(dǎo)體工業(yè)，發(fā)電工業(yè)，制藥行業(yè)和實(shí)驗(yàn)室。也可以作為制藥蒸餾水、食物和飲料生產(chǎn)用水、發(fā)電廠的鍋爐的補(bǔ)給水，以及其它應(yīng)用高純水。
二、edi高純水設(shè)備原理
連續(xù)電除鹽 （edi，electro deionization或cdi，continuous electrode ionization),是利用混和離子交換樹(shù)脂吸附給水中的陰陽(yáng)離子，同時(shí)這些被吸附的離子又在直流電壓的作用下，分別透過(guò)陰陽(yáng)離子交換膜而被除去的過(guò)程。這一過(guò)程離子交換樹(shù)脂是電連續(xù)再生的，因此不需要使用酸 和堿 對(duì)之再生。這一新技術(shù)可以替代傳統(tǒng)的離子交換裝置，生產(chǎn)出高達(dá)18m-cm的超純水。又可以比較清晰地描述如下：edi是利用陰、陽(yáng)離子膜，采用對(duì)稱(chēng)堆放的形式，在陰、陽(yáng)離子膜中間夾著陰、陽(yáng)離子樹(shù)脂，分別在直流電壓的作用下，進(jìn)行陰、陽(yáng)離子交換。而同時(shí)在電壓梯度的作用下，水會(huì)發(fā)生電解產(chǎn)生大量h+和oh-，這些h+和oh-對(duì)離子膜中間的陰、陽(yáng)離子不斷地進(jìn)行了再生。由于edi不停進(jìn)行交換——再生，使得純水度越來(lái)越高，所以，輕而易舉的產(chǎn)生了高純度的高純水。
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edi膜塊
edi工作原理圖
三、edi高純水設(shè)備的組成部分
1、采用美國(guó)進(jìn)口electropure xl-400模塊5塊；
2、 美國(guó)hanna電阻率、電導(dǎo)率在線監(jiān)側(cè)儀表一組；
3、電源控制系統(tǒng)：主要電器元件為施乃得、歐姆龍及國(guó)產(chǎn)優(yōu)質(zhì)器件，采用plc控制，電動(dòng)球閥、施乃得電器元件；
3t/h edi主機(jī)
6t/h edi高純水設(shè)備
四、edi高純水設(shè)備性能優(yōu)勢(shì)：
1、可連續(xù)，穩(wěn)定地生產(chǎn)高品質(zhì)純水，無(wú)需因樹(shù)脂再生而停機(jī)；
2、無(wú)污染物排放，既環(huán)保又省去了廢液處理的投資；
3、設(shè)備結(jié)構(gòu)緊湊，占地面積小，節(jié)省空間，同時(shí)還具有節(jié)能優(yōu)點(diǎn)；
4、出廠完成裝置調(diào)試，現(xiàn)場(chǎng)工作量小，上崗培訓(xùn)容易；
5、日常保養(yǎng)，操作簡(jiǎn)單，勞動(dòng)強(qiáng)度低
12t/h edi主機(jī)
電子產(chǎn)品清洗16t/h高純水設(shè)備
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